国产EUV光源系统样机近日亮相，其国产化率达90%，验证了技术路线可行性。不过该样机目前仍处于工程验证阶段，距离商用量产仍需3-5年。

朗道燧岩目前的产品布局分为两条主线：低功率FlintNano-LPP系列已进入产品化阶段；高功率FlintMicro-LPP系列已完成原理论证，但尚未进入工程样机阶段。

朗道燧岩成立于2024年，创始人王豪博士团队源自清华大学气体放电等离子体实验室。公司采用激光诱导等离子体（LPP）EUV光源技术路线，与国际主流方案一致。其业务体系包括：燧岩：EUV光源系统；辉光：大功率二氧化碳轴快流激光器；天算：等离子体仿真软件。

资本层面，朗道燧岩2025年10月获得张江高科旗下燧玥创投天使轮融资；2026年1月完成天使+轮融资；2026年7月完成A轮融资，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等。

该产品之所以备受关注，核心原因在于极紫外光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受到海外技术垄断和出口管制影响，是中国高端芯片自主可控链条中的关键环节。

光源样机亮相，意味着国产EUV光源从实验室研究进入工程验证阶段，但并不等于已经具备完整EUV光刻机量产能力。现场工作人员介绍称，该光源系统距离量产仍需3至5年，主要差距集中在三方面：

• 功率不足：样机EUV能量大于15W，而商用EUV光刻系统通常需要数百瓦级光源；

• 稳定性仍需提升：能量稳定性、等离子体稳定性和长期运行可靠性还需进一步工程化验证；

• 尚未进入晶圆量产场景：目前主要用于芯片曝光测试，不等于已具备工业级量产能力。

而且，EUV光刻机并非只依赖光源，还涉及光学系统、双工件台、真空系统、精密控制等复杂模块。

总体看，这台EUV光源系统样机的首秀，验证了国产EUV光源技术路线的可行性，也标志着国产化率较高的EUV光源样机开始进入公开测试阶段。但从“能做出来”到“能稳定用于产线”，仍需在功率、寿命、稳定性和系统集成上持续突破。