长鑫存储在世界制造业大会上正式宣布第五代DRAM技术平台实现量产,并同步展出基于该平台打造的大容量LPDDR5X新品。
更直接的影响体现在晶圆产出上。相比第四代平台,G5平台每片晶圆可产出的裸片数量提升至少50%。对存储产业来说,这意味着单位成本下降空间更大,也为后续产品迭代提供了更充足的产能基础。
G5平台的一个值得关注的细节,是长鑫存储在研发流程中引入了数字孪生系统。这套系统覆盖设计、开发、制造和维护等环节,相当于在虚拟环境中搭建先进DRAM工艺模型,提前验证工艺路径,从而缩短研发周期。
在界面工程、鞍形鳍式结构、低k间隔层位线等核心工艺上,G5平台也实现了突破。配合适配DRAM工艺的高介电常数金属栅(HKMG)工艺,平台在降低漏电、提升电容性能和优化器件尺寸之间寻求更平衡的方案。
换句话说,G5平台并不只是把结构做小,而是在工艺模块、材料体系和研发方法上同步升级。
工艺突破最终要落到产品上。此次展出的两款LPDDR5X产品单颗容量均为24Gb,较上一代同类产品提升50%,分别采用496Ball和245Ball封装规格,适配中高端智能手机和便携式消费电子等应用场景。
目前,这两款产品已进入规模量产阶段。对终端客户而言,更直观的感受是在相近体积下获得更高容量,或在相同容量下获得更好的能效表现。
长鑫存储表示,未来将继续面向全球市场需求推进技术迭代。G5平台的量产,可以看作其高端DRAM路线上的一个新节点;而真正的考验,仍在于后续能否持续保持良率、产能和成本竞争力,并在更广泛的存储市场中形成稳定供给能力。