德国蔡司集团半导体业务负责人弗兰克·罗蒙德（Frank Rohmund）日前在彭博电视的访谈中表示，开发出可商用的极紫外(EUV)光刻机仍需15年，这是一个“合理的假设”。

但这一外推有一个隐含前提——假设中国必须复刻ASML走过的完整路径。而且“是在封锁条件下”。这个假设是否成立，成为争论的核心分歧点。

作为人类工业史上最复杂的设备之一，蔡司和瑞银的估算有其合理性——EUV光刻机包含超过十万个精密零件，串联起超高精度反射光学、专用光源、高等级真空环境、超精密机械、专用计量检测、特种材料等大量细分环节，不是单项技术突破就能解决的系统工程。

但中国方面走的并非“复刻”路线，而且很多突破是在“被切除全球供应链”的前提下重新排定的优先级。罗蒙德自己也承认“进展难量化”，恰恰是因为这套路径无法被ASML的历史经验直接对标。

出口管制：被低估的变量

罗蒙德访谈里还有一句话是：“我们不相信这些出口限制会带来正面效果，因为它会加速中国的创新。”

ASML CEO Christophe Fouquet也表达过类似观点——封锁不会削弱中国已有的能力，只会逼其自研发。

这与CSIS等智库的研究结论一致：美国此前的管制“主要影响是加速了中国国产设备的应用”。2026年4月提出的MATCH法案拟将浸没式DUV和维保服务一并纳入限制，试图进一步切断中国获取成熟制程设备的渠道。但历史经验表明，越是将对手逼入“存亡问题”的境地，自主化的动力越强——富凯的比喻是“把中国丢进沙漠，他会多久开垦出自己的菜园。”

综合来看，Frank的观点提供了来自核心供应链企业的一个观察视角，但不能当作既定事实。光刻的追赶，不只是硬件零部件的复刻，更是材料、工艺、工程经验、软件生态整套体系的补齐。未来产业节奏，终究还要看本土产业链一步步的工程落地结果。