国务院总理李强近日签署国务院令，正式公布了修订后的《集成电路布图设计保护条例》。该《条例》已于8月3日对外发布，并将于2026年10月15日起正式施行。这是该条例自2001年公布施行以来的首次系统性修订，旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励技术创新，并促进科学技术发展。

1. 拓宽“保护圈”，纳新前沿技术

修订前，《条例》将保护对象明确限定于半导体集成电路。修订后，在与"集成电路"定义有关的条文表述上删除了“半导体集成电路”字样，将集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计也纳入法定保护范围。

2. 严把“准入关”，规制虚假申请

创新应当基于真实的智力投入。新条例在申请和审查程序上做出了重要调整，明确要求布图设计登记申请必须基于真实的创作活动，严禁弄虚作假。为了防止“注水”专利，新规增加了“独创性声明”的要求，申请人提交的图样需清晰显示具有独创性的部分。同时，条例完善了驳回和撤销程序，一旦发现获准登记的设计不符合规定，行政部门有权予以撤销，且专有权将被视为自始不存在。此外，考虑到不可抗力等因素，新规还增加了权利恢复程序，体现了法律的温情与公平。

3. 织密“保护网”，加大侵权成本

针对长期以来存在的“维权难、赔偿低”痛点，新条例在专有权保护方面“长出了牙齿”。新规明确了权利范围的界定标准，规定受保护的布图设计以登记的复制件或图样为准。更为关键的是，条例大幅加大了侵权赔偿力度。在确定赔偿额时，将依据权利人的实际损失或侵权人的获利来定；若难以确定，则参照许可使用费。

对于故意侵权且情节严重的行为，可以在计算出的赔偿数额（按实际损失、侵权获利或许可费倍数确定）的1倍以上5倍以下确定赔偿额。赔偿数额还包括权利人为制止侵权行为所支付的合理开支。

4. 激活“应用池”，促进成果转化

保护是为了更好地运用。新条例特别强调了促进布图设计的运用与转化。一方面，行政部门将加强公共服务，为企业提供更便捷的信息与支持；另一方面，条例完善了转让、许可和出质的相关要求，并规范了共有人的权利行使，明确了许可费用的分配原则。为了鼓励企业内部创新，条例还特别明确，法人或非法人组织在主持创作布图设计时，应当对符合条件的创作人员给予合理的奖励和报酬，让创新者的智慧得到应有的尊重与回报。

在强化保护的同时，条例也注重平衡权利人利益与公共利益，设定了合理的权利限制。例如，为个人目的、单纯的评价分析、研究或教学目的而复制受保护布图设计的，无需经过许可。此外，基于独立创作而巧合产生的相同设计，或者在不知情的情况下购买了含有非法复制布图设计的商品并投入商业利用的（在收到通知前），也不视为侵权。这些规定避免了权利的滥用，保障了正常的学术交流与市场流通秩序。

结语

集成电路产业是国家战略性新兴产业，而布图设计则是其中的灵魂所在。新修订的《集成电路布图设计保护条例》将于2026年10月15日正式实施，这标志着我国在集成电路知识产权保护领域迈上了新台阶。通过明确总体要求、完善审查程序、强化专有权保护以及促进设计运用，这部法规将有效激励技术人员的创新热情，规范市场竞争秩序，为我国从“芯片大国”向“芯片强国”的跨越提供强有力的法治保障。