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氮化镓:迈向30亿美元的爆发前夜

香港天翔電子有限公司 / 07-01 10:11

随着8英寸晶圆量产降本与供应链深度整合,氮化镓(GaN)正加速从消费电子向汽车、AI数据中心等高增长领域渗透,预计2026年营收将达9.2亿美元。本文深入探讨了GaN在800V汽车架构、高功率AI服务器电源及人形机器人驱动中的核心应用价值,并剖析了本土企业的突围机遇。

电力电子行业近年来对氮化镓(GaN)器件的关注度与应用探索呈爆发式增长。

尽管同为新一代宽禁带半导体材料,但GaN与SiC的应用边界不同,其优势集中在中低压和高频场景。相较SiC,GaN更适合650V及以下电压平台,可应用于消费电子快充、数据中心电源、通信电源、车载OBC/DC-DC等场景,是推动电力电子系统高效化、小型化的核心驱动力,更是助力“净零排放”的关键技术支撑。 

Yole分析师预测,到2030年,GaN功率半导体市场规模有望接近30亿美元,较2025年市场规模增长400%。预计该市场在2025至2030年间的年复合增长率(CAGR)将达到44%,2026年其营收将达到9.2亿美元,较2025年增长58%。

图1:2031年GaN功率半导体在各细分市场的销售额占比

由IDM驱动的战略性市场

事实上,自2023年以来,受英飞凌以8.3亿美元收购GaN Systems公司、瑞萨电子以3.39亿美元收购Transphorm等重大并购交易推动,氮化镓功率器件行业正式步入整合阶段,各大企业的布局动作持续加码,行业累计投资额已超12.5亿美元。

例如安世半导体(Nexperia)不断拓展增强型(E-MODE)氮化镓器件平台;罗姆半导体(ROHM)推出了EcoGaN器件,并不断强化在日本建立自己的内部制造能力;安森美(onsemi)与格罗方德(GlobalFoundries)、英诺赛科(Innoscience)分别签署协议,以扩大GaN功率器件的生产规模;Navitas正在转向力积电(PSMC),同时也在与格罗方德合作。

分析指出,尽管台积电(TSMC)已退出氮化镓代工领域,但晶圆代工厂依旧发挥着关键作用,例如VIS(世界先进)和格罗方德已从台积电获得了GaN技术授权;外延片厂商(如IQE、X-fab)与垂直整合制造商(IDMs)的合作,进一步增强了产业链的供应韧性。

其他代工厂也正积极布局以抢占新兴需求,包括三星(韩国)计划推出一条采用垂直整合方式(包括自产晶圆)的8英寸GaN生产线;DB HiTek(韩国)和SK Keyfoundry(韩国)也在积极布局市场。

整体来看,氮化镓功率器件行业的竞争格局,正朝着行业整合、垂直整合制造商主导,以及晶圆代工厂与外延片厂商结成战略同盟的方向演变。

GaN的性能优势与多场景应用落地

在电力电子应用中,电能的形式与电压转换是核心需求,而GaN之所以能成为宽功率范围、高频条件下高效电能转换的理想选择,核心优势源于三大关键特性:高功率转换效率、高开关速度、紧凑化电路设计。

这让GaN材料优势在应用端的价值被不断发掘,例如能够在消费类电子领域中有效的减小充电头体积;在数据中心、光伏、储能领域中提高功率密度,用户在实际电路和系统设计中可以不断提高开关频率和功率密度。

更为重要的是,当前,GaN的成本随着大规模量产迅速降低,不仅比碳化硅器件低很多,而且已经接近甚至低于硅器件。稳定的产能支持也给了客户足够的信心与保障,以英诺赛科已经建成的全球最大的8英寸硅基氮化镓产线为例,2023年其产能已达到1.5万片/月,2026年规划产能将有望达到7万片/月。

2023年被视作GaN技术实现大规模量产突破的“分水岭”。那一年,以氮化镓快速充电器的市场化应用为标志,“GaN技术”迅速成为消费电子电源领域的核心标签,也为其向更广泛场景拓展奠定了市场基础。

相较于硅基系统,GaN技术催生的新一代产品兼具小型、轻量、高能效的特点,目前已实现多场景渗透,同时仍在持续挖掘新的应用潜力。尤其是在汽车与数据中心应用中,国元证券预计2030年GaN在上述两大市场中的规模将分别提升至5.5亿美元和15.5亿美元,是GaN功率器件重要的增量方向。

  • 汽车电子

主机厂之所以越来越倾向于看重GaN器件,无外乎是因为氮化镓在高频应用上具备优势,可以在确保产品性能的同时实现产品的轻量化、小型化,这是整车厂最为关心的。尤其是随着电池系统向800V演进,支持高压快充、更大的主驱功率提升和高功率密度设计成为了新的目标,要求车载电源必须要在功率密度、生产制造性、高可靠性与低成本之间找到平衡,但这不是一件轻松的事情。

  • AI数据中心

氮化镓在数据中心领域的应用自2025年起开始加速,尤其是随着800V高压直流(HVDC)成为AI数据中心电源架构升级方向之一后,在更高频率、更高功率密度和小型化需求下,GaN有望优先在服务器800V DC-DC、48V IBC等环节提升渗透率。

在目前的AI服务器中,英伟达平台功率已由A100约6.5kW提升至B300约15kW,后续Rubin平台有望进一步提升。预计单台AI服务器等效功率将从2024年的9kW提升至2028年的20kW。与此同时,全球AI服务器出货量也有望从2024年的167万台提升至2028年的409万台。于是,出货量与单机功率共振,为GaN器件提供了潜在增量空间。

  • 人形机器人

根据高盛研究公司的数据,2025年全球人形机器人出货量在15,000至20,000台之间,预计未来十年将保持超过40%的强劲复合年增长率(CAGR)。

在人形机器人中,电机驱动是最关键的功率级之一,而GaN在这一点上优势明显。机器人本质上是一系列精密电机的集合,而GaN使这些驱动器能够以超过100kHz的开关频率运行——远高于传统的MOSFET解决方案。在这些频率下,设计人员可以省去笨重的电解电容器,从而显著缩小体积和重量。其结果是实现更平稳的运动、更高的效率、更好的可靠性和更长的寿命。这种组合使得GaN成为下一代机器人执行器的自然之选。

  • 新能源

GaN在储能系统、家用太阳能逆变器中发挥着关键作用,是光伏市场的重要组成部分。数据显示,由于开关损耗小,GaN方案可以比硅器件方案效率高0.5%-1%,从而带来两个优势:一是发电量更高;二是在同样的体积下,GaN方案有机会实现一倍以上的功率,从而降低系统的成本。

当然,消费类应用依然是驱动功率GaN市场增长的核心动力,近期的趋势包括:充电器功率提升至高达300W,以及家电电源和电机驱动采用GaN以实现更高的效率与更小的体积。预计到2030年,消费电子仍将占据52%的GaN市场份额。

正如VisIC Technologies公司CEO DR.Tamara Baksht所言,从行业趋势来看,氮化镓技术正逐步从“niche市场”走向“全面渗透”。也就是说,会有越来越多的企业,围绕不同应用,开发出各种类型的氮化镓产品,覆盖低功率大电流、低功率高电压、中高功率等多元场景。在这一过程中,无论是E型/D型氮化镓,还是GaN-on-SiC、GaN-on-GaN等技术,都将获得各自的机会,共同填补电源市场的细分需求。

从技术验证到规模化落地,三大核心方向明确

总体而言,GaN技术路线呈现低压集成化和高压化并行发展趋势。2024-2025年,GaN功率器件一方面向40V-200V低压和单片集成方向拓展,另一方面向900V-1,700V高压器件推进,覆盖范围由消费电子快充向数据中心、汽车和工业电源扩展。

而低压和650V中压仍是GaN当前最具确定性的应用区间。低压GaN造合DC-DC、POL、激光雷达驱动和低压大电流场景;650V GaN适合快充、服务器PSU、OBC和通信电源等高频电源场景,是当前GaN替代硅MOSFET的潜在核心市场。

不过,氮化镓器件端技术迭代虽仍具备重要价值,但行业竞争的差异化重心正逐步转向量产规模与落地交付能力。无论是IDM还是代工模式,8英寸晶圆量产落地是优化成本竞争力的核心举措,但也在良率管控、晶圆均匀性、全流程工艺管控层面带来全新技术难题。

因此,除核心材料特性和器件架构创新外,GaN还需在衬底工艺、系统集成、可靠性保障等后端关键环节实现技术突破与优化。以下我们将从这三大维度,解析GaN产业化发展的关键支撑方向与最新进展。

  • 持续向大尺寸、低成本、高适配演进

GaN器件的性能与经济可行性,不仅取决于材料结构和器件架构,还与外延生长的衬底选择密切相关。目前来看,原生GaN衬底材料质量最优,但价格昂贵且晶圆直径最大仅150毫米(6英寸),难以适配行业大尺寸晶圆的发展趋势。因此,硅衬底是当前的主流选择,可实现200毫米(8英寸)晶圆的产业化,且支持CMOS兼容制造方法,同时业界正从200毫米向300毫米(12英寸)硅晶圆过渡。

图2:晶圆缩放与芯片缩小——推动成本降低的技术趋势 图片来源:Yole Group

  • 集成化升级与系统级优化

GaN功率系统的发展,正从分立元件组装向单片集成、混合集成演进,同时行业的优化重心也从组件级转向系统级。不过,电力电子行业并非“赢家通吃”的市场,单片集成与混合集成方案将长期并存,行业不会单一追求组件性能的极致,而是将根据应用需求,在功率转换效率、设计简易性、成本等多维度进行权衡,实现系统整体性能的最优解。

  • 可靠性、稳健性与封装

GaN器件能否成功应用于各场景,除核心性能外,可靠性、稳健性与封装技术是不可或缺的关键因素,需要在器件、系统、封装三个层面展开优化。

整体来看,依托行业长期成长逻辑,叠加相较碳化硅更低的建厂资本投入,GaN赛道成长空间依旧可观。在下一轮行业上行周期中,企业想要实现突围,关键在于依托自研,或是通过与外延代工、晶圆厂战略合作获取独家知识产权,并配套成熟的大批量量产落地能力。

打造本土差异化竞争优势

当前,全球化合物半导体行业竞争日趋激烈,国际头部企业持续加大领域内投资,普遍推行“SiC+GaN”双线布局的发展策略,并通过与核心客户签订长期供货协议,稳固自身市场地位,构筑起强劲的行业壁垒。

同时,国际头部企业还凭借成熟的IDM模式积累了深厚的产业优势,这一模式依托长期产业积淀成型,覆盖成本管控、规模化出货、芯片制造、封装测试、终端应用全产业链环节,搭配深厚的技术壁垒,对本土半导体企业形成了全方位的竞争压力。

在此行业格局下,中国本土化合物半导体产业如何突破竞争桎梏、构建专属差异化竞争优势,成为产业发展的核心课题。

多位业内人士告诉《国际电子商情》,本土产业想要快速追赶、实现突围,首先要立足自身经营与产品研发实现突破。一方面,要精进经营、提质增效,以更积极的发展态度深耕赛道;另一方面,摒弃分散化发展模式,集中优质资金、技术、人才资源聚焦核心产品打磨,加快产品迭代更新速度,打造具备核心竞争力的标杆产品,以产品优势抢占市场份额。

其次,虽然IDM模式投入大、周期长、发展难度高,但却是本土功率半导体企业做大做强、构筑自主专利壁垒的必经之路。毕竟功率半导体领域的专利技术与生产设备、工厂制程、生产流程深度绑定,单纯依托外部代工模式难以实现长期稳定发展,也无法搭建专属的技术护城河。

同时,国内产业具备市场反馈循环快的独特优势,为技术迭代和产品优化提供了良好条件。行业内企业还要摒弃单打独斗的发展思维,强化抱团协同,整合分散的研发资源与产业力量,破解中小主体研发能力薄弱、竞争力不足的痛点,凝聚合力对抗国际头部企业。

从下游终端市场的实际需求来看,汽车、数据中心、新能源客户的核心诉求,主要集中在稳定供应能力、专业研发实力与稳健的财务状况三大维度,这也是当前国际巨头立足市场的核心门槛。国内市场接下来也很有可能呈现头部集中的发展趋势,头部企业可通过深度绑定上下游产业链,进一步放大成本优势与供应保障能力,形成差异化核心竞争力。


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